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半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド

半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド

MOQ: 1本
価格: US $ 15/PC
標準パッケージ: シリンダー/タンク
配達期間: 15 日
支払方法: L/C,T/T
供給能力: 年間200トン
詳細情報
起源の場所
中国
ブランド名
CMC
証明
COA
モデル番号
Wf6
製品名:
タングランヘクサフロリド
外見:
色のない
純度:
99.999%
交通:
海 で
モデルNO:
タングランヘクサフロリド
輸送パッケージ:
海の交通機関
仕様:
10L 40L 50L
商標:
CMC
原産地:
中国
HSコード:
2812190091
供給の能力:
200t/年
CAS番号:
7783-82-6
公式:
Wf6
エインエックス:
232-029-1 試聴する
構成要素:
産業用 純粋 空気
グレード基準:
電子グレード
化学特性:
毒気体
カスタマイズ:
利用可能 カスタマイズされた要求
最小注文数量:
1本
価格:
US $ 15/PC
パッケージの詳細:
シリンダー/タンク
受渡し時間:
15 日
支払条件:
L/C,T/T
供給の能力:
年間200トン
製品説明

製品説明

トルフスタンヘクサフローライド (WF6) は,トンフスタンとフッ素原子から成る化学化合物である.室温では無色ガスで,主に半導体産業で,化学蒸気堆積 (CVD) プロセスで薄膜のウランを堆積するために使用されます..

ワルフタン ヘクサフロリド ガス に 関する 重要な 点 は 次 の よう です.

  1. 化学式:WF6
  2. 物理 特質: タングメン ヘクサフローライド は,密度 13.1 g/cm3 の 密度 の 濃い ガス で,沸点 17.1 °C (62.8 °F) で,室温 や 大気圧 で ガス の 形 に 存在 する こと が でき ます.
  3. 反応性: WF6 は,高度に反応し,空気中の水蒸気と容易に反応し,ウラン酸化物と水素酸化酸を形成する.また,金属,ガラス,陶芸品.
  4. 用途:ウランヘクサフッロイドの主な用途は半導体産業である.マイクロ電子機器の製造にウランの薄膜を堆積するための前駆物として使用される.WF6 は,ワルフスタン金属の生産にも用いられ,様々な化学反応の試料として用いられる..
  5. 安全 に 関する 考慮: タングメン ヘクサ フロライド は 毒性 と 腐食 性 の ある 物質 です.接触 する と ひどく 焼け 傷 と 目 の 損傷 を 引き起こす こと が あり ます.この ガス を 吸い込み たら,呼吸 路 の 刺激 や 健康 に 与える 危険 性 が あり ますWF6 を 操作 する とき に は,よく 換気 し た 場所 で 操作 し,適切な 個人 保護 装備 を 使用 する の などの 適切な 安全 予防策 が 必要 です.
概要

基本情報

モデルNO WF6 輸送パッケージ シリンダー
仕様 10L/15kg 商標 CMC
原産地 蘇州,中国 HSコード 2812190091
生産能力 200t/年    
製品説明

 


製品仕様:

アングステンヘクサフローライド WF6 GAS
CAS番号: 7783-82-6
EINECS番号: 232-029-1
UN番号:UN2196
純度 99.999%
ポイントクラス: 23
外見: 無色
グレード標準:電子グレード,工業グレード



製品のCOA:
 
試験用品 単位 品質要件 試験結果
CF4 ppm <0.5 <0.01
O2 ppm <0.5 <0.01
N2 ppm <1 0.03
CO ppm <0.5 <0.02
CO2 ppm <0.5 <0.01
SiF4 ppm <0.5 <0.1
SF6 ppm <0.5 <0.1
HF ppm <5 0.19
アール ppb ≤10 <0.020
そのように ppb ≤10 <0.001
B について ppb ≤10 <0.005
CA について ppb ≤5 <0.200
Cd ppb ≤2 <0.001
C.C. ppb ≤10 <0.020
フェ ppb ≤10 <0.007
K ppb ≤5 <0.100
ミニ ppb ≤10 <0.001
ほら ppb ≤5 <0.040
ほら ppb ≤0.1 <0.001
ティ ppb ≤10 <0.002
リー ppb ≤10 <0.002
U ppb ≤0.05 <0.001
Zn ppb ≤10 <0.005
そうだ ppb ≤10 <0.100
Pb ppb ≤10 <0.001
P ppb ≤2 <0.300
塩分 ppb ≤10 <0.020
ppb ≤20 <0.030
クー ppb ≤5 <0.005
モー ppb ≤10 <0.001
他の金属の不純物総量 ppb ≤500 <0.0010
 
詳細な写真

半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド 0

半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド 1
半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド 2

上海ケミケ・ケミカル株式会社 訓練を受けたスタッフで,ガス業界で長年の経験を組み合わせています. 我々は,ガスのシリンダー,電子ガス,など供給. そしてガスホルダー,パネル,バルブ,フィッティング,その他の設備半導体チップ,太陽電池,LED,TFT-LCD,光ファイバー,ガラス私たちの使命は,革新的な信頼性のある安全性のあるサポート,ソリューション,高品質な製品を提供するために,グローバル顧客と提携することです.
主にH2,O2,N2,Ar,CO2,プロパン,アセチレン,ヘリウム,レーザー混合ガス,SiH4,Sih2cl2,SiHCL3,SiCL4,NH3,CF4,NF3,SF6,HCL,N2O,ドーピング混合ガス (TMB,PH3,B2H6) と他の電子ガス.
半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド 3

 

製品
商品の詳細
半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド
MOQ: 1本
価格: US $ 15/PC
標準パッケージ: シリンダー/タンク
配達期間: 15 日
支払方法: L/C,T/T
供給能力: 年間200トン
詳細情報
起源の場所
中国
ブランド名
CMC
証明
COA
モデル番号
Wf6
製品名:
タングランヘクサフロリド
外見:
色のない
純度:
99.999%
交通:
海 で
モデルNO:
タングランヘクサフロリド
輸送パッケージ:
海の交通機関
仕様:
10L 40L 50L
商標:
CMC
原産地:
中国
HSコード:
2812190091
供給の能力:
200t/年
CAS番号:
7783-82-6
公式:
Wf6
エインエックス:
232-029-1 試聴する
構成要素:
産業用 純粋 空気
グレード基準:
電子グレード
化学特性:
毒気体
カスタマイズ:
利用可能 カスタマイズされた要求
最小注文数量:
1本
価格:
US $ 15/PC
パッケージの詳細:
シリンダー/タンク
受渡し時間:
15 日
支払条件:
L/C,T/T
供給の能力:
年間200トン
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トルフスタンヘクサフローライド (WF6) は,トンフスタンとフッ素原子から成る化学化合物である.室温では無色ガスで,主に半導体産業で,化学蒸気堆積 (CVD) プロセスで薄膜のウランを堆積するために使用されます..

ワルフタン ヘクサフロリド ガス に 関する 重要な 点 は 次 の よう です.

  1. 化学式:WF6
  2. 物理 特質: タングメン ヘクサフローライド は,密度 13.1 g/cm3 の 密度 の 濃い ガス で,沸点 17.1 °C (62.8 °F) で,室温 や 大気圧 で ガス の 形 に 存在 する こと が でき ます.
  3. 反応性: WF6 は,高度に反応し,空気中の水蒸気と容易に反応し,ウラン酸化物と水素酸化酸を形成する.また,金属,ガラス,陶芸品.
  4. 用途:ウランヘクサフッロイドの主な用途は半導体産業である.マイクロ電子機器の製造にウランの薄膜を堆積するための前駆物として使用される.WF6 は,ワルフスタン金属の生産にも用いられ,様々な化学反応の試料として用いられる..
  5. 安全 に 関する 考慮: タングメン ヘクサ フロライド は 毒性 と 腐食 性 の ある 物質 です.接触 する と ひどく 焼け 傷 と 目 の 損傷 を 引き起こす こと が あり ます.この ガス を 吸い込み たら,呼吸 路 の 刺激 や 健康 に 与える 危険 性 が あり ますWF6 を 操作 する とき に は,よく 換気 し た 場所 で 操作 し,適切な 個人 保護 装備 を 使用 する の などの 適切な 安全 予防策 が 必要 です.
概要

基本情報

モデルNO WF6 輸送パッケージ シリンダー
仕様 10L/15kg 商標 CMC
原産地 蘇州,中国 HSコード 2812190091
生産能力 200t/年    
製品説明

 


製品仕様:

アングステンヘクサフローライド WF6 GAS
CAS番号: 7783-82-6
EINECS番号: 232-029-1
UN番号:UN2196
純度 99.999%
ポイントクラス: 23
外見: 無色
グレード標準:電子グレード,工業グレード



製品のCOA:
 
試験用品 単位 品質要件 試験結果
CF4 ppm <0.5 <0.01
O2 ppm <0.5 <0.01
N2 ppm <1 0.03
CO ppm <0.5 <0.02
CO2 ppm <0.5 <0.01
SiF4 ppm <0.5 <0.1
SF6 ppm <0.5 <0.1
HF ppm <5 0.19
アール ppb ≤10 <0.020
そのように ppb ≤10 <0.001
B について ppb ≤10 <0.005
CA について ppb ≤5 <0.200
Cd ppb ≤2 <0.001
C.C. ppb ≤10 <0.020
フェ ppb ≤10 <0.007
K ppb ≤5 <0.100
ミニ ppb ≤10 <0.001
ほら ppb ≤5 <0.040
ほら ppb ≤0.1 <0.001
ティ ppb ≤10 <0.002
リー ppb ≤10 <0.002
U ppb ≤0.05 <0.001
Zn ppb ≤10 <0.005
そうだ ppb ≤10 <0.100
Pb ppb ≤10 <0.001
P ppb ≤2 <0.300
塩分 ppb ≤10 <0.020
ppb ≤20 <0.030
クー ppb ≤5 <0.005
モー ppb ≤10 <0.001
他の金属の不純物総量 ppb ≤500 <0.0010
 
詳細な写真

半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド 0

半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド 1
半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド 2

上海ケミケ・ケミカル株式会社 訓練を受けたスタッフで,ガス業界で長年の経験を組み合わせています. 我々は,ガスのシリンダー,電子ガス,など供給. そしてガスホルダー,パネル,バルブ,フィッティング,その他の設備半導体チップ,太陽電池,LED,TFT-LCD,光ファイバー,ガラス私たちの使命は,革新的な信頼性のある安全性のあるサポート,ソリューション,高品質な製品を提供するために,グローバル顧客と提携することです.
主にH2,O2,N2,Ar,CO2,プロパン,アセチレン,ヘリウム,レーザー混合ガス,SiH4,Sih2cl2,SiHCL3,SiCL4,NH3,CF4,NF3,SF6,HCL,N2O,ドーピング混合ガス (TMB,PH3,B2H6) と他の電子ガス.
半導体産業への応用 Wf6 ガス ウォルフタン ヘクサフロライド 3

 

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