|
| MOQ: | 1kg |
| 価格: | US $100/kg |
| 標準パッケージ: | シリンダー/タンク |
| 配達期間: | 15日 |
| 支払方法: | L/C,T/T |
| 供給能力: | 5000kg/Month |
ゲルマンガス は,ゲルマニウム と 水素 から 構成 さ れ て いる化合物 で,化学 式 は GeH4 です.色 が ない,燃えやすい,高 毒性 の ガス です.以下 に は,ゲルマンガス に 関する いくつかの 重要な 点 が 挙げ られ て い ます.
化学組成: ゲルマンガスは,4つの水素原子 (GeH4) に結合した1つのゲルマニウム原子から構成される.
属性: ゲルマンガスにはいくつかの重要な属性があります.
毒性: ゲルマン ガス は 極めて 有毒 で,吸入 さ れ たり 皮膚 に 晒さ れ たり する と 害 を 及ぼし ます.健康 に 深刻な 影響 を 及ぼし,極めて 慎重 に 扱わ れる べき です.
燃やす 可能性: ガス は 燃やす 可能性 が あり,空気 と 爆発 的 な 混合物 を 形成 し ます.開き の 炎,火花,あるいは 発火 する 可能性 が ある 他 の 源 から 遠ざか れ て おく べき です.
揮発性: ゲルマンガスは揮発性化合物で,室温と圧力で簡単に蒸発する.
生産: ゲルマニアムガスは,通常,特定の条件下でゲルマニアム四塩化物 (GeCl4) と水素ガス (H2) の反応によって生成される.
用途: 毒性や危険性があるため,ゲルマンガスの用途は限られています.その使用例は以下の通りです.
半導体製造: 半導体の製造には,材料の電気特性を変化させる補給剤として,ゲルマンガスを使用する.生産プロセスに導入され,ゲルマニアムを含む層や構造を作り出す.
研究開発: ゲルマニアムガスは,ゲルマニアム化合物とその性質の研究など,様々な目的のために研究開発ラボで使用されています.
安全 に 関する 考え方: ガス は 毒性 が 高い もの で,健康 に 大きな 危険 を もたらし て い ます.呼吸 障害,中枢 神経 システム の 損傷,その他の 深刻な 健康 影響 を もたらす こと が あり ます.適切な安全対策適切な個人保護具の使用及び換気システムの導入を含む,ゲルマンガスとの作業において,ゲルマンガスの取り扱いと貯蔵は,厳格な安全ガイドラインと規則を遵守すべきである..
ガスに伴う毒性や危険性によりその使用と取り扱いは,厳格な安全プロトコルが実施できる専門産業や研究環境に限定されています.
基本情報
| モデルNO | GeH4 | 構成要素 | ドイツ語 99.999% |
| 格付け基準 | 電子グレード | 化学特性 | 燃える気体 |
| 商標 | CMC | 輸送パッケージ | 44L |
| 仕様 | 99.999 | 原産地 | 中国 |
| ゲルマン (GeH4) | |||
| 記述 | |||
| ゲルマンは燃え易く,色のないガスで,特徴的な鋭い,吐き気味があります.沸点は -90°Cです. 不安定で,330°C以上の温度に加熱すると爆発的に分解します. | |||
| 仕様 | |||
| 純度 % | 99.999 | ||
| 酸素+アルゴン | ≤0.5 ppmv | ||
| 窒素 | ≤2.0 ppmv | ||
| 二酸化炭素 | ≤2.0 ppmv | ||
| 炭化物 | ≤1.0 ppmv | ||
| メタン | ≤1.0 ppmv | ||
| 水 | ≤1.0 ppmv | ||
| クロロゲルマン | ≤5.0 ppmv | ||
| ディジャーマン* | ≤20.0 ppmv | ||
| ゲルモキサン | ≤5.0 ppmv | ||
| 水素* | ≤50.0 ppmv | ||
| トリジャーマン | ≤1.0 ppmv | ||
| 船舶 | |||
| DOT 発送名 | ゲルマン | ||
| DOT分類 | 2.3 | ||
| DOTラベル | 有毒ガス,燃えるガス | ||
| UN番号 | UN2192 | ||
| CAS番号 | 7782-65-2 | ||
| CGA/DISS/JIS | 350/632/W22-14L | ||
| 送料として | 圧縮ガス | ||
| 技術情報 | |||
| シリンダー状態 @ 21.1°C | ガス | ||
| 空気 の 燃える 限界 | 0.5-100% | ||
| 自動点火温度 (°C) | 54.4 | ||
| 分子重量 (g/mol) | 76.62 | ||
| 固有重力 (空気=1) | 2.65 | ||
| 臨界温度 (°C) | 34.8 | ||
| 臨界圧 (psig) | |||
| 申請 | |||
| エピタキシアルとアモルフシリコン・ゲルマニウム合金堆積に使用され 制御可能な光学屈折率を持つ (Si,Ge) O2フィルムのPECVD |
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| MOQ: | 1kg |
| 価格: | US $100/kg |
| 標準パッケージ: | シリンダー/タンク |
| 配達期間: | 15日 |
| 支払方法: | L/C,T/T |
| 供給能力: | 5000kg/Month |
ゲルマンガス は,ゲルマニウム と 水素 から 構成 さ れ て いる化合物 で,化学 式 は GeH4 です.色 が ない,燃えやすい,高 毒性 の ガス です.以下 に は,ゲルマンガス に 関する いくつかの 重要な 点 が 挙げ られ て い ます.
化学組成: ゲルマンガスは,4つの水素原子 (GeH4) に結合した1つのゲルマニウム原子から構成される.
属性: ゲルマンガスにはいくつかの重要な属性があります.
毒性: ゲルマン ガス は 極めて 有毒 で,吸入 さ れ たり 皮膚 に 晒さ れ たり する と 害 を 及ぼし ます.健康 に 深刻な 影響 を 及ぼし,極めて 慎重 に 扱わ れる べき です.
燃やす 可能性: ガス は 燃やす 可能性 が あり,空気 と 爆発 的 な 混合物 を 形成 し ます.開き の 炎,火花,あるいは 発火 する 可能性 が ある 他 の 源 から 遠ざか れ て おく べき です.
揮発性: ゲルマンガスは揮発性化合物で,室温と圧力で簡単に蒸発する.
生産: ゲルマニアムガスは,通常,特定の条件下でゲルマニアム四塩化物 (GeCl4) と水素ガス (H2) の反応によって生成される.
用途: 毒性や危険性があるため,ゲルマンガスの用途は限られています.その使用例は以下の通りです.
半導体製造: 半導体の製造には,材料の電気特性を変化させる補給剤として,ゲルマンガスを使用する.生産プロセスに導入され,ゲルマニアムを含む層や構造を作り出す.
研究開発: ゲルマニアムガスは,ゲルマニアム化合物とその性質の研究など,様々な目的のために研究開発ラボで使用されています.
安全 に 関する 考え方: ガス は 毒性 が 高い もの で,健康 に 大きな 危険 を もたらし て い ます.呼吸 障害,中枢 神経 システム の 損傷,その他の 深刻な 健康 影響 を もたらす こと が あり ます.適切な安全対策適切な個人保護具の使用及び換気システムの導入を含む,ゲルマンガスとの作業において,ゲルマンガスの取り扱いと貯蔵は,厳格な安全ガイドラインと規則を遵守すべきである..
ガスに伴う毒性や危険性によりその使用と取り扱いは,厳格な安全プロトコルが実施できる専門産業や研究環境に限定されています.
基本情報
| モデルNO | GeH4 | 構成要素 | ドイツ語 99.999% |
| 格付け基準 | 電子グレード | 化学特性 | 燃える気体 |
| 商標 | CMC | 輸送パッケージ | 44L |
| 仕様 | 99.999 | 原産地 | 中国 |
| ゲルマン (GeH4) | |||
| 記述 | |||
| ゲルマンは燃え易く,色のないガスで,特徴的な鋭い,吐き気味があります.沸点は -90°Cです. 不安定で,330°C以上の温度に加熱すると爆発的に分解します. | |||
| 仕様 | |||
| 純度 % | 99.999 | ||
| 酸素+アルゴン | ≤0.5 ppmv | ||
| 窒素 | ≤2.0 ppmv | ||
| 二酸化炭素 | ≤2.0 ppmv | ||
| 炭化物 | ≤1.0 ppmv | ||
| メタン | ≤1.0 ppmv | ||
| 水 | ≤1.0 ppmv | ||
| クロロゲルマン | ≤5.0 ppmv | ||
| ディジャーマン* | ≤20.0 ppmv | ||
| ゲルモキサン | ≤5.0 ppmv | ||
| 水素* | ≤50.0 ppmv | ||
| トリジャーマン | ≤1.0 ppmv | ||
| 船舶 | |||
| DOT 発送名 | ゲルマン | ||
| DOT分類 | 2.3 | ||
| DOTラベル | 有毒ガス,燃えるガス | ||
| UN番号 | UN2192 | ||
| CAS番号 | 7782-65-2 | ||
| CGA/DISS/JIS | 350/632/W22-14L | ||
| 送料として | 圧縮ガス | ||
| 技術情報 | |||
| シリンダー状態 @ 21.1°C | ガス | ||
| 空気 の 燃える 限界 | 0.5-100% | ||
| 自動点火温度 (°C) | 54.4 | ||
| 分子重量 (g/mol) | 76.62 | ||
| 固有重力 (空気=1) | 2.65 | ||
| 臨界温度 (°C) | 34.8 | ||
| 臨界圧 (psig) | |||
| 申請 | |||
| エピタキシアルとアモルフシリコン・ゲルマニウム合金堆積に使用され 制御可能な光学屈折率を持つ (Si,Ge) O2フィルムのPECVD |
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